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金屬混合靶與準(zhǔn)分子激光氣相沉積技術(shù)

正在ICF實(shí)驗(yàn)中，準(zhǔn)分子預(yù)混氣銷售，混合膜、多層膜是基礎(chǔ)、基準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)用靶的一種重要靶型。薄膜的研究也成為ICF靶研究的重要領(lǐng)域，廣東準(zhǔn)分子預(yù)混氣，高質(zhì)量的薄膜有利于物理診斷的研究。長(zhǎng)期以來，發(fā)展了多種制膜技術(shù)和方法，如蒸發(fā)、離子束濺射、磁控濺射、分子束外延(MBE)、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)、溶膠-凝膠法等。近年來，隨著高功率脈沖激光技術(shù)的發(fā)展而產(chǎn)生的脈沖激光制膜技術(shù)(PLD)，在制備多元素化合物膜等方面顯示了獨(dú)特的優(yōu)越性。

準(zhǔn)分子激光在醫(yī)學(xué)上主要用于屈光不正的治1療，如用PRK、LASIK、LASEK等方法進(jìn)行屈光不正的治1療，是目前臨床上應(yīng)用比較普遍、安全、快捷、有效、穩(wěn)定的屈光不正治1療方法。

　　美國(guó)IBM公司開始使用并且改進(jìn)準(zhǔn)分子激光技術(shù)，主要應(yīng)用在計(jì)算機(jī)芯片的制造以及塑料物質(zhì)上蝕刻精1確的圖形。

　　1980年IBM公司應(yīng)用193nm準(zhǔn)分子激光刨光鉆石。

　　1982年IBM將準(zhǔn)分子激光技術(shù)應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中.

　　1986年AT&T貝爾實(shí)驗(yàn)室研制出第1臺(tái)準(zhǔn)分子激光分步投影光刻機(jī).

　　目前準(zhǔn)分子激光已廣泛應(yīng)用在臨床醫(yī)學(xué)以及科學(xué)研究與工業(yè)應(yīng)用方面，如：鉆孔、標(biāo)記表面處理、激光化學(xué)氣相沉積，物理氣相沉積，磁頭與光學(xué)鏡片和硅晶圓的清潔等方面，哪里有準(zhǔn)分子預(yù)混氣廠，微機(jī)電系統(tǒng)相關(guān)的微制造技術(shù).

在大規(guī)模集成電路工藝的光刻技術(shù)領(lǐng)域，為了獲得更穩(wěn)定的、更小尺寸的微加工，對(duì)激光輸出的穩(wěn)定性有很高的要求。激光氣需要在高重復(fù)頻率下流場(chǎng)參數(shù)保持穩(wěn)定，這對(duì)激光器氣體循環(huán)系統(tǒng)的研究和設(shè)計(jì)提出了新的要求。本文用計(jì)算流體力學(xué)的理論知識(shí)和軟件對(duì)準(zhǔn)分子氣體激光氣的內(nèi)流場(chǎng)進(jìn)行了研究。首先，介紹了準(zhǔn)分子激光氣產(chǎn)生激光的原理及激光腔內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，分析影響準(zhǔn)分子激光氣流場(chǎng)分布的主要因素，結(jié)合流體力學(xué)和風(fēng)機(jī)的知識(shí)，對(duì)風(fēng)機(jī)的選型做詳細(xì)的說明，準(zhǔn)分子預(yù)混氣出售，確定了激光器氣體循環(huán)的關(guān)鍵裝置與設(shè)計(jì)原理。其次，建立激光器氣體流動(dòng)腔的數(shù)學(xué)模型，主要考慮橫流風(fēng)機(jī)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。

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